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レーザー洗浄機におけるシリコンウェーハ洗浄の背後にある革命的な力

2025,12,16
今日の急速な技術進歩の時代において、半導体産業は現代技術の中核として、その生産プロセスのあらゆる段階が重要となっています。
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シリコンウェーハは、半導体製造の重要な材料であり、その表面の清浄度が製品の品質と性能に直接影響します。
化学洗浄や機械的ブラッシングなどの従来のシリコンウェーハ洗浄方法は、ウェーハ表面から不純物をある程度除去することができますが、多くの欠点があります。
化学洗浄には大量の化学試薬が必要なため、コストが高くつき、環境汚染を引き起こします。
機械的ブラッシングはシリコンウェーハ表面に傷を付けやすく、その後の加工や使用に影響を与えます。レーザー洗浄機技術の出現により、この状況は根本的に変わりました。
レーザー洗浄機は非接触洗浄方式を提供します。高エネルギー密度のレーザー光線を利用してシリコンウェーハ表面を照射し、汚れや酸化膜などの不純物を瞬時に除去し、洗浄効果を実現します。
この洗浄方法は迅速かつ効率的であるだけでなく、シリコンウェーハ表面に物理的損傷を与えず、化学残留物も残さないため、真に環境に優しい洗浄技術となります。
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著者:

Mr. cqchuke

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